导读:本文包含了微光刻论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:微光刻,半导体设备,标准化技术委员会
微光刻论文文献综述
[1]（2019）在《全国半导体设备和材料标准化技术委员会第九届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会2019年会在长春召开》一文中研究指出全国半导体设备和材料标准化技术委员会第九届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2019年9月8—12日在长春市召开,来自全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会的委员和国内外86家单位微光刻领域的专家及技术人员近160余人参加了本次会议,来自国内外的学者专家聚集到中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,对微光刻技术、微光刻设备和材料技术的发展趋势、最新研究成果及进展等展开深入的交流与探讨。(本文来源于《微纳电子技术》期刊2019年11期）
[2]（2018）在《全国半导体设备和材料标准化技术委员会第八届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会2018年会在上海召开》一文中研究指出全国半导体设备和材料标准化技术委员会第八届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2018年10月9-12日在上海召开,来自全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会的委员和国内外88家单位微光刻领域的专家及技术人员近160余人参加了本次会议。10月10日上午的会议由中国科学院北京综合研究中心、全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会主任冯稷研究员主持。上海交通大学电子信息与电气工程学院党委书记苏跃增教授代表承办方致欢迎词。先进电子材料与器件平台(AEMD平台)常务副主任程秀兰研究员感谢委员会对于平(本文来源于《微纳电子技术》期刊2018年12期）
陈宝钦[3]（2017）在《中国半导体微光刻技术及新材料方面的发展与展望》一文中研究指出材料科学是研究材料的组织结构、性质、生产和应用效能,以及它们之间相互关联的科学,是一门多学科交叉的工程应用科学。材料大体上分为结构材料和功能材料。结构材料是以材料力学为基础,用以制造人类需求的构件材料。功能材料主要是利用物质的物理、化学或生物现象所产生的、、、、化学、生化作用具备各种特定性质功能或前相互转化的功能的材料,如半导体材料、、光电子材料等。而功能材料又可分为:①电学功能材料、②磁学功能材料、③光学功能材料、④声学功能材料、⑤力学功能材料、⑥热学功能材料、⑦化学功能材料、⑧生医功能材料和⑨核功能材料。这些材料正是微光刻技术应用和关注的材料。中国于50年代末开始半导体科学技术的研究,60年代中期也逐渐开展了半导体材料和微光刻技术应用材料的研发和制备技术的研究,如半导体锗材料、半导体硅材料及超微粒感光乳胶、光致抗蚀剂、超微粒感光板、铬板等掩模材料和微光刻材料。随着近六十年来半导体微光刻技术的发展,如今半导体产业得到长足地发展,在中国已建和在建的1 2英寸的芯片加工厂有十多条生产线,预到2020年规划建设将达到26座。为此相应的半导体材料及微光刻技术应用的功能材料产业链也将迅速发展。在纳米尺度的半导体微光刻技术研究方面也取得较大进步,在实验室条件下,进行了20nm、14 nm甚至7nm的工艺研究。相应地进行了大量的纳米器件应用功能材料开发研究,如:宽禁带半导体材料、高介电常数材料、碳基材料、二维晶体材料、超晶格材料、超材料、基片复合材料、EUV极紫外抗蚀剂材料、电子抗蚀剂材料、EUV光学反射膜材料和掩模材料等。(本文来源于《2017第六届国际新材料大会会刊》期刊2017-06-14）
郭党委,冯娟娟,席力[4]（2015）在《微光刻与微加工技术工艺流程研究》一文中研究指出随着半导体制造工业的迅速发展,微光刻与微加工技术作为其"核心工艺"已经成为目前高校科学研究和工业研发的一个热门领域。它主要包括图形数据处理技术、图形曝光技术和图形加工技术。介绍了微光刻与微加工技术的基本工艺流程,讨论和分析了影响图形加工质量的工艺参数和主要因素,以及需要注意的关键事项和常见问题的解决方法。结合本实验室的工作,通过实验探索和工艺流程的优化,确定了光刻胶Futurres PR1-1000A型的最佳光刻工艺参数。(本文来源于《实验室研究与探索》期刊2015年12期）
[5]（2015）在《微光刻领域的标准化及学术交流》一文中研究指出全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会是在中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会领导下,在全国半导体设备和材料技术领域从事微光刻标准化工作的组织。全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203,National Standardization Technical Committee for Semiconductor Equipment and Materials)(本文来源于《微纳电子技术》期刊2015年02期）
[6]（2014）在《2014年第四届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会圆满闭幕》一文中研究指出10月29-31日,"2014年第四届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会"在上海举办。会议由复旦大学信息科学与工程学院纳米光刻与应用研究中心(FUNARC)承办,同时得到了捷伊欧半导体贸易(上海)有限公司(JEOL Shanghai Semiconductors Co.,Ltd.)、光映科技股份有限公司(Stella Technology Co.,Ltd.)、GenISys GmbH、卡尔蔡(本文来源于《微纳电子技术》期刊2014年11期）
[7]（2013）在《全国半导体设备和材料标准化技术委员会第叁届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会圆满闭幕》一文中研究指出全国半导体设备和材料标准化技术委员会第叁届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2013年11月11-13日在四川成都隆重召开,大会由全国半导体设备材料标准化技术委员会秘书处王香秘书主持。来自全国微光刻分技术委员会的委员和国内外微光刻领域的专家及技术人员近100人参加了本次会(本文来源于《微纳电子技术》期刊2013年12期）
胡华超[8]（2013）在《动态掩模微光刻系统开发及其在液晶光控取向中的应用研究》一文中研究指出液晶(LCs, Liquid Crystals)是一种处于液态和晶态之间低维有序中间相态的有机化合物材料,具备独特的流动性及介电和光学的各向异性。在电场、磁场、应力及热等外部条件作用下,液晶分子的指向会从初始取向发生变化。因其独特的光学外场可调特性,尤其是电光特性,使得液晶在诸如信息显示及可调光子学应用等领域都扮演着举足轻重的角色。液晶器件性能与液晶分子的取向控制密不可分,液晶取向控制是很多液晶器件功能实现的基础。液晶取向技术的研究历史悠久、工艺类型丰富,按照其制备工艺类型可分为摩擦取向(接触式)和非接触式取向两种技术演进。摩擦取向工艺简单,操作方便且经济有效,成本低廉,所以市场接受度很高,是工业上大量采用的一种液晶取向技术。但是存在摩擦静电、微尘聚积及沟槽内径过大等缺点,从而降低了液晶器件的成品率。为了解决这些问题,近年来已有不少非接触式取向方式被提出,比如在斜向蒸镀氧化硅、离子束取向、光取向等。其中,光取向技术由于取向精度高,易于实现选区取向实现多畴结构而实现广视角,所以引起了广泛的关注。本文工作主要包含两部分：一、基于成像光学原理,开发完善一套基于数控微反射镜阵芯片(Digital micro-mirror device, DMD)的动态掩模投影微光刻系统,将其应用于传统光刻微加工及液晶光控取向。相比传统的扫描直写式微光刻系统曝光控制复杂、效率低下,及掩模式光刻系统复刻图形失真、物理掩模板设计复杂、制造成本高昂的缺点,这套系统具备分辨率高、低光学缺陷、掩模图案设计方便及操作使用智能化等优点。这部分工作完成了光刻系统整体的搭建与调试,同时,为提高系统光学分辨率,基于光学设计理论和Code V(?)软件,协助设计了双高斯和佩兹瓦尔光学结构结合的投影物镜组,以消除DMD栅格效应的影响及光学系统像差和衍射的影响；基于Labview(?)工控软件初步设计了一套可用于传统光刻微加工及液晶光控取向的多用途工件台,同时得以提高系统光机分辨率。二、基于Adobe Illustrator(?)矢量图设计软件设计任意所需的图形图案；基于Auto CAD(?)及Auto Inventor(?)软件设计任意叁维结构并分层输出为DMD所需的二维图案。将任意设定的图形图案投影曝光到液晶盒玻璃基板SD1取向涂层上,约束SD1分子的排列方向,进而控制液晶的区域取向得到多畴结构。该动态掩膜光刻系统适用于液晶取向的任意图形制备和偏振控制,考虑光机及取向剂光化学反应影响下的实际分辨率达到了0.5μm；适用于传统光刻微加工,二维结构横向分辨率达到了1.4μm。基于SD1材料的可擦写特性,我们实现了任意选区取向控制,包括一维、二维周期及非周期光栅；不同一/二维条形码间的光控转换；任意灰度的分区控制等。上述制备的液晶器件均可在外场作用下实现开关或调谐。该动态掩膜光刻技术可方便地实现实时、复杂的液晶图形取向控制,在信息显示与识别及可调光子学器件等方面有着广阔的应用前景。(本文来源于《南京大学》期刊2013-05-28）
[9]（2012）在《全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会全体大会2012年技术研讨会圆满闭幕》一文中研究指出"全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会全体大会2012年技术研讨会"于10月17—19日在江苏常州溧阳天目湖涵田度假村酒店隆重召开。本次研讨会不仅邀请了全国微光刻分技术委员会的60位委员,还首次邀请了拥有行业内国际顶尖技术的美国Gobal Foundries公司、美国SEMATECH(本文来源于《微纳电子技术》期刊2012年11期）
[10]（2012）在《全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会(筹)全体大会暨国家标准审定会圆满闭幕》一文中研究指出全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会(筹)全体大会暨国家标准审定会于2011年11月24—25日在深圳市顺利召开,来自全国各地37个单位的55名代表参加了本次会议,参加(本文来源于《微纳电子技术》期刊2012年01期）
微光刻论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会第八届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2018年10月9-12日在上海召开,来自全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会的委员和国内外88家单位微光刻领域的专家及技术人员近160余人参加了本次会议。10月10日上午的会议由中国科学院北京综合研究中心、全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会主任冯稷研究员主持。上海交通大学电子信息与电气工程学院党委书记苏跃增教授代表承办方致欢迎词。先进电子材料与器件平台(AEMD平台)常务副主任程秀兰研究员感谢委员会对于平
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
微光刻论文参考文献
[1]..全国半导体设备和材料标准化技术委员会第九届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会2019年会在长春召开[J].微纳电子技术.2019
[2]..全国半导体设备和材料标准化技术委员会第八届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会2018年会在上海召开[J].微纳电子技术.2018
[3].陈宝钦.中国半导体微光刻技术及新材料方面的发展与展望[C].2017第六届国际新材料大会会刊.2017
[4].郭党委,冯娟娟,席力.微光刻与微加工技术工艺流程研究[J].实验室研究与探索.2015
[5]..微光刻领域的标准化及学术交流[J].微纳电子技术.2015
[6]..2014年第四届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会圆满闭幕[J].微纳电子技术.2014
[7]..全国半导体设备和材料标准化技术委员会第叁届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会圆满闭幕[J].微纳电子技术.2013
[8].胡华超.动态掩模微光刻系统开发及其在液晶光控取向中的应用研究[D].南京大学.2013
[9]..全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会全体大会2012年技术研讨会圆满闭幕[J].微纳电子技术.2012
[10]..全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会(筹)全体大会暨国家标准审定会圆满闭幕[J].微纳电子技术.2012