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  • 阮智伟:基于DSMC对磁控溅射镀膜设备的流场分析与研究论文

    阮智伟:基于DSMC对磁控溅射镀膜设备的流场分析与研究论文

    本文主要研究内容作者阮智伟,王展威,郝明,陈树雷,姜玥,刘坤,巴德纯(2019)在《基于DSMC对磁控溅射镀膜设备的流场分析与研究》一文中研究指出:在磁控溅射镀膜工艺中的真空环...
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