本文主要研究内容
作者阮智伟,王展威,郝明,陈树雷,姜玥,刘坤,巴德纯（2019）在《基于DSMC对磁控溅射镀膜设备的流场分析与研究》一文中研究指出：在磁控溅射镀膜工艺中的真空环境是决定所形成膜层质量的重要指标,本文对于其中真空环境获得过程中的气体流动和抽除问题进行阐述,对于处于过渡流态下克努森数处于0.01～10的稀薄气体进行研究。针对于现阶段国内外提出的针对大型真空镀膜设备所需真空环境的评价标准和理论计算,结合不同气体种类和不同环境,对于在不同气体流量密度、温度和气体质量占比,通过DSMC进行流场的模拟仿真。本文选用氢气、氧气和氮气作为混合
Abstract
zai ci kong jian she du mo gong yi zhong de zhen kong huan jing shi jue ding suo xing cheng mo ceng zhi liang de chong yao zhi biao ,ben wen dui yu ji zhong zhen kong huan jing huo de guo cheng zhong de qi ti liu dong he chou chu wen ti jin hang chan shu ,dui yu chu yu guo du liu tai xia ke nu sen shu chu yu 0.01～10de xi bao qi ti jin hang yan jiu 。zhen dui yu xian jie duan guo nei wai di chu de zhen dui da xing zhen kong du mo she bei suo xu zhen kong huan jing de ping jia biao zhun he li lun ji suan ,jie ge bu tong qi ti chong lei he bu tong huan jing ,dui yu zai bu tong qi ti liu liang mi du 、wen du he qi ti zhi liang zhan bi ,tong guo DSMCjin hang liu chang de mo ni fang zhen 。ben wen shua yong qing qi 、yang qi he dan qi zuo wei hun ge
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自第十四届国际真空科学与工程应用学术会议的阮智伟,王展威,郝明,陈树雷,姜玥,刘坤,巴德纯，发表于刊物第十四届国际真空科学与工程应用学术会议2019-08-04论文，是一篇关于磁控溅射论文,稀薄气体流动论文,直接模拟蒙特卡罗论文,大型真空设备论文,第十四届国际真空科学与工程应用学术会议2019-08-04论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自第十四届国际真空科学与工程应用学术会议2019-08-04论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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