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    王建伟:基体偏压对磁控溅射制备CrAlN薄膜摩擦学性能的影响论文

    本文主要研究内容作者王建伟,薛玉君,蔡海潮,杜三明(2019)在《基体偏压对磁控溅射制备CrAlN薄膜摩擦学性能的影响》一文中研究指出:通过分析不同基体偏压下磁控溅射(PVD)...
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