王建伟:基体偏压对磁控溅射制备CrAlN薄膜摩擦学性能的影响论文

王建伟:基体偏压对磁控溅射制备CrAlN薄膜摩擦学性能的影响论文

本文主要研究内容

作者王建伟,薛玉君,蔡海潮,杜三明(2019)在《基体偏压对磁控溅射制备CrAlN薄膜摩擦学性能的影响》一文中研究指出:通过分析不同基体偏压下磁控溅射(PVD)CrAlN薄膜的结构特征、硬度规律及磨痕形貌,研究基体偏压对CrAlN薄膜的结构、硬度及摩擦磨损性能的影响。借助扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察CrAlN薄膜的表面形貌及三维形貌。采用纳米压痕仪对CrAlN薄膜的硬度进行测定。利用球盘式摩擦磨损试验机测定CrAlN薄膜的摩擦系数,并观察薄膜的磨痕形貌,分析薄膜的磨损机理。结果表明:当基体偏压低于150V时,薄膜表面颗粒的平均尺寸随偏压增大而逐渐减小;当基体偏压超过150V时,薄膜表面出现有明显的缺陷。随着基体偏压的增大,薄膜的硬度呈先升高后降低的趋势,并在基体偏压约为150V时达到最大值为27.5GPa;薄膜的摩擦系数呈先减小后增大的趋势,并在基体偏压约为150V时达到最小值0.25;磨痕呈不同程度的犁沟状,在基体偏压为150V时磨痕形貌平整且犁沟最小。当基体偏压为150V时,CrAlN薄膜的表面缺陷最小、硬度最大、摩擦系数低和综合性能最好,薄膜的磨损机理为磨粒磨损。

Abstract

tong guo fen xi bu tong ji ti pian ya xia ci kong jian she (PVD)CrAlNbao mo de jie gou te zheng 、ying du gui lv ji mo hen xing mao ,yan jiu ji ti pian ya dui CrAlNbao mo de jie gou 、ying du ji ma ca mo sun xing neng de ying xiang 。jie zhu sao miao dian zi xian wei jing (SEM)he yuan zi li xian wei jing (AFM)guan cha CrAlNbao mo de biao mian xing mao ji san wei xing mao 。cai yong na mi ya hen yi dui CrAlNbao mo de ying du jin hang ce ding 。li yong qiu pan shi ma ca mo sun shi yan ji ce ding CrAlNbao mo de ma ca ji shu ,bing guan cha bao mo de mo hen xing mao ,fen xi bao mo de mo sun ji li 。jie guo biao ming :dang ji ti pian ya di yu 150Vshi ,bao mo biao mian ke li de ping jun che cun sui pian ya zeng da er zhu jian jian xiao ;dang ji ti pian ya chao guo 150Vshi ,bao mo biao mian chu xian you ming xian de que xian 。sui zhao ji ti pian ya de zeng da ,bao mo de ying du cheng xian sheng gao hou jiang di de qu shi ,bing zai ji ti pian ya yao wei 150Vshi da dao zui da zhi wei 27.5GPa;bao mo de ma ca ji shu cheng xian jian xiao hou zeng da de qu shi ,bing zai ji ti pian ya yao wei 150Vshi da dao zui xiao zhi 0.25;mo hen cheng bu tong cheng du de li gou zhuang ,zai ji ti pian ya wei 150Vshi mo hen xing mao ping zheng ju li gou zui xiao 。dang ji ti pian ya wei 150Vshi ,CrAlNbao mo de biao mian que xian zui xiao 、ying du zui da 、ma ca ji shu di he zeng ge xing neng zui hao ,bao mo de mo sun ji li wei mo li mo sun 。

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自工具技术的王建伟,薛玉君,蔡海潮,杜三明,发表于刊物工具技术2019年06期论文,是一篇关于磁控溅射论文,基体偏压论文,薄膜论文,硬度论文,摩擦磨损性能论文,工具技术2019年06期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自工具技术2019年06期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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