导读:本文包含了成像型椭偏仪论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:成像系统,光刻,偏振像差检测,穆勒矩阵成像椭偏仪
成像型椭偏仪论文文献综述
孟泽江,李思坤,王向朝,步扬,戴凤钊[1]（2019）在《穆勒矩阵成像椭偏仪误差源的简化分析方法》一文中研究指出针对穆勒矩阵成像椭偏仪的系统误差源提出一种简化分析方法,将光强曲线的理想傅里叶级数系数组与实际系数组进行近似匹配,建立穆勒矩阵测量误差与误差源参数之间的线性模型。针对解析式复杂的随机方位角误差,从统计学角度提出了一种等效噪声模型以分析其对测量结果的影响。采用上述简化方法系统分析了椭偏仪的6种系统误差源和2种随机误差源对穆勒矩阵测量结果的影响,并以一个典型光刻投影物镜的穆勒光瞳为检测对象,进行了检测仿真。仿真结果验证了所提方法分析的准确性。(本文来源于《光学学报》期刊2019年09期）
陈修国,袁奎,杜卫超,陈军,江浩[2]（2016）在《基于Mueller矩阵成像椭偏仪的纳米结构几何参数大面积测量》一文中研究指出为了实现有效的工艺监控,在批量化纳米制造中对纳米结构的关键尺寸等几何参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有十分重要的意义.光学散射仪目前已经发展成为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段.传统光学散射测量技术只能获得光斑照射区内待测参数的平均值,而对小于光斑照射区内样品的微小变化难以准确分析.此外,由于其只能进行单点测试,必须要移动样品台进行扫描才能获得大面积区域内待测参数的分布信息,从而严重影响测试效率.为此,本文将传统光学散射测量技术与显微成像技术相结合,提出利用Mueller矩阵成像椭偏仪实现纳米结构几何参数的大面积快速准确测量.Mueller矩阵成像椭偏仪具有传统Mueller矩阵椭偏仪测量信息全、光谱灵敏度高的优势,同时又有显微成像技术高空间分辨率的优点,有望为批量化纳米制造中纳米结构几何参数提供一种大面积、快速、低成本、非破坏性的精确测量新途径.(本文来源于《物理学报》期刊2016年07期）
姜春光,谌雅琴,刘涛,熊伟,李国光[3]（2016）在《全反射式宽光谱成像椭偏仪》一文中研究指出本论文采用全反射式光学聚焦结构,通过独特的偏振控制技术,实现宽光谱、无色差成像椭偏仪的研制。在系统校准过程中采用多样品校准方法,利用校准得到的系统参数对待测样品进行成像椭偏分析,确定样品椭偏角ψ和s及薄膜厚度的空间分布。为测试自制成像椭偏仪的准确性,本文对3 nm~300 nm的Si O2/Si样品在200 nm~1 000 nm内多波长下进行成像椭偏测量。实验结果表明,Si O2薄膜厚度最大相对测量误差小于6%。(本文来源于《光电工程》期刊2016年01期）
姜春光[4]（2015）在《深紫外宽光谱成像椭偏仪的研制》一文中研究指出成像椭偏测量是具有高横向分辨率的椭偏测量技术。它能实现同时对样品表面光学成像的每个像元进行椭偏测量,进而获得材料物理参数(例如,膜厚、折射率、消光系数、表面微粗糙度、合成材料中的组分比例等)及其空间分布,是一种测量速度快,且无损伤测量技术。正是这种测量的快速精确性,使得成像椭偏仪在众多领域得到应用,尤其是在薄膜测量中扮演着举足轻重的作用。有别于传统的透射式光学系统设计,本论文采用全反射式光学聚焦结构,通过独特的偏振控制技术,来实现宽光谱、无色差成像椭偏仪的测量研究。特别地,光路设计采用两对离轴抛面镜和平面反射镜的特定组合有效消除了全反射式聚焦结构带来的偏振态的变化。为了简化常用校准法的复杂过程,本论文采用了一种利用多个标准样品来实现成像椭偏仪校准的方法。简单来说,该校准方法是通过测量多个已知薄膜厚度和光学特性的标准样品随补偿器角度变化的波长光强分布图像,借助区域平均、傅里叶分析和最小二乘拟合得到整个成像椭偏系统的校准参数,包括起偏器／检偏器方位角、波片相位延迟、补偿器初始方位角等。在系统校准之后,本论文利用校准之后的系统参数对待测样品进行了成像椭偏分析,确定出样品的椭偏角Ψ和△,并给出相应的薄膜厚度分布。通过对2-300nm的SiO2/Si薄膜样品在200-1000nm内多波长下的成像椭偏测量,验证了自制成像椭偏仪测量的准确性,Si02薄膜厚度的最大测量相对误差小于6%。最后,本论文提出了一种可以有效提高成像分辨率的技术—超分辨率技术,它能将多幅含有不同细节的低分辨率图像,融合重建出高分辨率的图像。本论文通过实验对比,说明了超分辨率技术在成像椭偏仪中的实用和高效性,并对该技术在成像椭偏仪中的应用进行了展望。(本文来源于《合肥工业大学》期刊2015-03-01）
成像型椭偏仪论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
为了实现有效的工艺监控,在批量化纳米制造中对纳米结构的关键尺寸等几何参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有十分重要的意义.光学散射仪目前已经发展成为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段.传统光学散射测量技术只能获得光斑照射区内待测参数的平均值,而对小于光斑照射区内样品的微小变化难以准确分析.此外,由于其只能进行单点测试,必须要移动样品台进行扫描才能获得大面积区域内待测参数的分布信息,从而严重影响测试效率.为此,本文将传统光学散射测量技术与显微成像技术相结合,提出利用Mueller矩阵成像椭偏仪实现纳米结构几何参数的大面积快速准确测量.Mueller矩阵成像椭偏仪具有传统Mueller矩阵椭偏仪测量信息全、光谱灵敏度高的优势,同时又有显微成像技术高空间分辨率的优点,有望为批量化纳米制造中纳米结构几何参数提供一种大面积、快速、低成本、非破坏性的精确测量新途径.
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
成像型椭偏仪论文参考文献
[1].孟泽江,李思坤,王向朝,步扬,戴凤钊.穆勒矩阵成像椭偏仪误差源的简化分析方法[J].光学学报.2019
[2].陈修国,袁奎,杜卫超,陈军,江浩.基于Mueller矩阵成像椭偏仪的纳米结构几何参数大面积测量[J].物理学报.2016
[3].姜春光,谌雅琴,刘涛,熊伟,李国光.全反射式宽光谱成像椭偏仪[J].光电工程.2016
[4].姜春光.深紫外宽光谱成像椭偏仪的研制[D].合肥工业大学.2015