光诱捕性能论文

本文主要研究内容作者戴恩琦,张帅,吕文辉（2019）在《薄层晶体硅双面陷光结构的制备及其性能研究》一文中研究指出：采用金属辅助硅化学刻蚀法,在薄层晶体硅片前后表面分别制备硅纳米...