本文主要研究内容
作者李春华,田玉平,高艳秋（2019）在《集成电路工艺用过氧化氢中杂质元素的检测方法》一文中研究指出：集成电路工艺用过氧化氢经水稀释10倍,采用高分辨电感耦合等离子体质谱仪进行Na和B等杂质检测。采用标准加入法,选择高分辨电感耦合等离子体质谱仪的中分辨模式,有效消除了Fe、P、Ca等的干扰;选择高分辨模式,消除了K、As的干扰。建立的方法有效降低了基质效应、消除了环境干扰,检出限<10 ng/L,背景等效浓度<30 ng/L,回收率在90.5～103.2之间,重复性的相对标准偏差≤7.2%,再现性的相对标准偏差≤10.2%,满足国际半导体设备材料产业协会对集成电路工艺用过氧化氢的测试要求。
Abstract
ji cheng dian lu gong yi yong guo yang hua qing jing shui xi shi 10bei ,cai yong gao fen bian dian gan ou ge deng li zi ti zhi pu yi jin hang Nahe Bdeng za zhi jian ce 。cai yong biao zhun jia ru fa ,shua ze gao fen bian dian gan ou ge deng li zi ti zhi pu yi de zhong fen bian mo shi ,you xiao xiao chu le Fe、P、Cadeng de gan rao ;shua ze gao fen bian mo shi ,xiao chu le K、Asde gan rao 。jian li de fang fa you xiao jiang di le ji zhi xiao ying 、xiao chu le huan jing gan rao ,jian chu xian <10 ng/L,bei jing deng xiao nong du <30 ng/L,hui shou lv zai 90.5～103.2zhi jian ,chong fu xing de xiang dui biao zhun pian cha ≤7.2%,zai xian xing de xiang dui biao zhun pian cha ≤10.2%,man zu guo ji ban dao ti she bei cai liao chan ye xie hui dui ji cheng dian lu gong yi yong guo yang hua qing de ce shi yao qiu 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自上海计量测试的李春华,田玉平,高艳秋，发表于刊物上海计量测试2019年04期论文，是一篇关于电子级论文,过氧化氢论文,高分辨质谱论文,上海计量测试2019年04期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自上海计量测试2019年04期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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