导读:本文包含了双靶反应磁控溅射论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:AlN薄膜,反应磁控溅射,粘结强度,共沉积
双靶反应磁控溅射论文文献综述
朱家俊,周灵平,刘新胜,彭坤,李德意[1]（2010）在《双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜粘结性能研究》一文中研究指出采用单、双靶反应磁控溅射法分别在45钢、GCr15钢、硅(100)和钼衬底上制备了AlN薄膜。X射线衍射和电子显微分析表明,双靶反应磁控溅射沉积的AlN薄膜具有高致密度和低残余应力,同时采用划痕法和压痕法等对AlN薄膜的粘结强度进行测试,结果表明:双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜的粘结强度明显比单靶沉积的薄膜高,划痕临界载荷提高0.5～2倍。不同衬底上沉积的AlN薄膜粘结强度存在很大的差别,以钼衬底上沉积的薄膜粘结强度最高,划痕法测得的临界载荷高达64N;GCr15衬底上AlN薄膜摩擦试验表明,AlN薄膜能明显起到减磨作用。(本文来源于《人工晶体学报》期刊2010年01期）
贾军伟,潘文霞,黄河激[2]（2008）在《中频对靶反应磁控溅射Al_2O_3、TiO_2、ZrO_2功能薄膜的特性研究》一文中研究指出利用中频对靶磁控溅射技术,分别制备出厚度低于5μm、表面光滑的TiO2、ZrO2、Al2O33种功能薄膜。研究了不同工艺条件下薄膜的成膜速率和表面形貌,用四探针法测量了材料的薄膜电阻,并表征了膜层材料在大气压热等离子射流急速加热条件下的抗热冲击特性。(本文来源于《新技术新工艺》期刊2008年08期）
赵来,刘翔宇,许生,范垂祯,高文波[3]（2003）在《中频双靶反应磁控溅射制备TiO_2膜的一些探索》一文中研究指出具有高折射率的 Ti O2 膜在反射型液晶显示器的关键部件高反射率背板膜系的制备中起重要作用。本文使用国内首家在线中频双靶反应磁控溅射设备进行了制备 Ti O2 膜的探索 ,完成了相应的膜层测试与分析。实验结果表明双靶磁控反应溅射可以制备高折射率的 Ti O2 膜 ,实验还从折射率的角度证明中频双靶反应溅射与直流反应溅射的效果一致 ,为进一步提高膜层沉积速率以适应工业生产需求需要引入更有效的溅射过程控制手段(本文来源于《真空》期刊2003年01期）
赵哲,刘树红,唐正宇,常鸿[4]（2002）在《MM-1000多靶反应磁控溅射镀膜机的研制》一文中研究指出玻璃表面镀膜着色属TiO2,SiO2介质膜的一种应用,传统的镀膜方法采用射频溅射工艺和电子束蒸发工艺,但是这两种方法成本较高,效率较低,无法满足大批量镀膜工业生产的需要。近年来,由于磁控溅射技术方面取得了进展,为反应磁控溅射制备介质(本文来源于《中国核科技报告》期刊2002年00期）
双靶反应磁控溅射论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
利用中频对靶磁控溅射技术,分别制备出厚度低于5μm、表面光滑的TiO2、ZrO2、Al2O33种功能薄膜。研究了不同工艺条件下薄膜的成膜速率和表面形貌,用四探针法测量了材料的薄膜电阻,并表征了膜层材料在大气压热等离子射流急速加热条件下的抗热冲击特性。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
双靶反应磁控溅射论文参考文献
[1].朱家俊,周灵平,刘新胜,彭坤,李德意.双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜粘结性能研究[J].人工晶体学报.2010
[2].贾军伟,潘文霞,黄河激.中频对靶反应磁控溅射Al_2O_3、TiO_2、ZrO_2功能薄膜的特性研究[J].新技术新工艺.2008
[3].赵来,刘翔宇,许生,范垂祯,高文波.中频双靶反应磁控溅射制备TiO_2膜的一些探索[J].真空.2003
[4].赵哲,刘树红,唐正宇,常鸿.MM-1000多靶反应磁控溅射镀膜机的研制[J].中国核科技报告.2002