本文主要研究内容
作者杨勇,汪冰洁,姚婷婷,李刚,金克武,沈洪雪,王天齐,杨扬,彭赛奥,甘治平,马立云（2019）在《氮气流量和退火处理对射频磁控溅射氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响》一文中研究指出：常温下利用TiO2陶瓷靶采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了N掺杂TiO2薄膜。利用光学轮廓仪、X射线衍射仪（XRD）、X射线光电子能谱仪分析（XPS）和分光光度计等对薄膜的沉积速率、化学组成、晶体结构和禁带宽度进行了系统研究。结果表明:磁控溅射N2流量和退火处理对薄膜的微观结构和性能有重要的影响。退火前,薄膜由非晶态TiO2构成;退火后,薄膜呈现锐钛矿相和金红石相的混合相。随着磁控溅射系统中N2流量的增加,退火前禁带宽度从3.19eV减少到2.15eV;退火后,薄膜由非晶相TiO2组织转化为锐钛矿TiO2和金红石TiO2构成的浑河相组织,禁带宽度相比退火前的非晶相TiO2薄膜略有增加。
Abstract
chang wen xia li yong TiO2tao ci ba cai yong she pin ci kong jian she fa zai bo li chen de shang zhi bei le Ncan za TiO2bao mo 。li yong guang xue lun kuo yi 、Xshe xian yan she yi （XRD）、Xshe xian guang dian zi neng pu yi fen xi （XPS）he fen guang guang du ji deng dui bao mo de chen ji su lv 、hua xue zu cheng 、jing ti jie gou he jin dai kuan du jin hang le ji tong yan jiu 。jie guo biao ming :ci kong jian she N2liu liang he tui huo chu li dui bao mo de wei guan jie gou he xing neng you chong yao de ying xiang 。tui huo qian ,bao mo you fei jing tai TiO2gou cheng ;tui huo hou ,bao mo cheng xian rui tai kuang xiang he jin gong dan xiang de hun ge xiang 。sui zhao ci kong jian she ji tong zhong N2liu liang de zeng jia ,tui huo qian jin dai kuan du cong 3.19eVjian shao dao 2.15eV;tui huo hou ,bao mo you fei jing xiang TiO2zu zhi zhuai hua wei rui tai kuang TiO2he jin gong dan TiO2gou cheng de hun he xiang zu zhi ,jin dai kuan du xiang bi tui huo qian de fei jing xiang TiO2bao mo lve you zeng jia 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自材料科学与工程学报的杨勇,汪冰洁,姚婷婷,李刚,金克武,沈洪雪,王天齐,杨扬,彭赛奥,甘治平,马立云，发表于刊物材料科学与工程学报2019年03期论文，是一篇关于氮掺杂二氧化钛薄膜论文,射频磁控溅射论文,沉积速率论文,禁带宽度论文,材料科学与工程学报2019年03期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自材料科学与工程学报2019年03期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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